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科学研究

9hentai 学术报告三十六:中子反射技术及其在界面磁性研究中的应用

发表于: 2025-11-26 08:52 点击:

报告主题:中子反射技术及其在界面磁性研究中的应用

报告嘉宾:朱涛(研究员,中国科学院物理研究所/中国散裂中子源)

时 间:2025年12月01日(周一)上午9:

30点地 点:9hentai 537会议厅

报告人简介

中国科学院物理研究所/中国散裂中子源研究员。1997年浙江大学材料系博士毕业,随后在中科院物理所磁学室从事博士后研究,2000年入职中科院物理所任副研究员,2007年任研究员,主要从事自旋电子材料相关的研究工作。期间,2005至2006年作为洪堡学者在德国Juelich研究中心Peter Gruenburg课题组从事合作研究。2004年加入散裂中子源项目,主持了一期三台谱仪中多功能反射谱仪的设计、建造、调试和验收。目前主要研究兴趣是自旋电子学中新材料/新效应的探索,同时兼任多功能反射谱仪科学家,负责该谱仪的运行,代表性研究成果发表在Sci. Adv.、Nat. Comm.、Phys. Rev. Lett.、Adv. Mater.、Adv. Funct. Mater.等国际学术期刊上。

报告内容简介

中国散裂中子源是国家“十一五”立项的大科学装置,2011年10月在广东省东莞市开始建设,2018年8月完成国家验收,多功能反射谱仪是散裂中子源一期建设的三台谱仪。中子反射谱仪是通过分析来自样品的反射中子研究物质的表面和界面结构。本报告简要回顾中国散裂中子源的建设情况及中子反射技术,结合过去的研究实例介绍该谱仪的功能及特色,重点介绍极化中子反射在自旋电子材料,特别是在磁性薄膜界面磁性研究中的若干应用[1-6]。另外,还将介绍如何利用中子的电中性和强穿透性开展复杂的原位中子反射实验。

[1] Qixun Guo et al., Appl. Phys. Lett. 120, 022402 (2022).

[2] Qihan Zhang et al., Phys. Rev. Lett. 128, 167202 (2022).

[3] Jialiang Li zet al., Adv. Funct. Mater. 34, 2401018 (2024).

[4] Xiao Deng et al., NPG Asia Mater. 17, 21 (2025).

[5] He Bai et al., Adv. Electron. Mater. 10, 202300785 (2024).

[6] Mengqin Wang et al., Adv. Sci. 202502613 (2025).

欢迎有兴趣的师生前来参加!

9hentai

2025年11月26日

撰稿:张晓颖、黄传威 审核:王东、王雷

地点 9hentai 537会议厅 时间 2025年12月01日
时分 上午9:30点 星期 周一

深圳市南山区学苑大道1066号B2栋 邮编:518071 

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